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深圳市激埃特光电有限公司
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锗红外成像

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详细说明

    在2-12μm范围内，锗是制作高效红外成像系统中光学镜头和光学窗口*常用的材料。锗具有高折射率(2-14μm波段时约为4.0)、表面*小曲率和色差小的特性，在低功率成像系统中，通常不需要修正。



　　锗受温度影响严重，透过率随温度的升高而降低，因此，它们只能在100摄氏度以下应用。在设计对重量有严格要求的系统的时候要考虑锗的密度(5.33 g/cm3)。锗主要应用在热成像系统和前视红外(FLIR)领域里面。







　　锗透镜



　　材料 锗



　　类型 平凸 平凹 双凸 双凹 弯月



　　直径 5-300mm+0/-0.2



　　小心偏 <3分



　　焦距公差 ±2%



　　面形 △N<λ/4@633nm



　　表面质量 60/40



　　通光孔径 >90%



　　倒角 保护性<0.5mmX45度

 
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